半导体真空退火炉

产品型号：Huace-1200G

厂商性质：生产厂家

所在地：北京市

更新日期：2026-04-08

产品简介：

华测仪器Huace-1200G半导体真空退火炉

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Huace-1200G半导体真空退火炉由华测仪器生产，设备的反射镜采用高准度曲率设计，通过五轴加工系统制造，以维持更高的反射效率，并在升降温过程中仍能保持稳定均匀的温度场，可实现宽范围均热区、高速加热与高速降温。样品由石英管保护，无气氛污染，更适合半导体工艺使用。

产品优势

温度高准度控制

过红外镀金聚焦炉和温度控制器的组合使用，可以准确控制样品的温度(远比普通加温方式)。此外，降温速度和保持在不同温度下可提供高准度

不同环境下的加热与降温

加热/降温可用真空、气氛环境、低温(高纯度性气体 静态或流动)操作简单，使用石英玻璃制成。红外线可传到加热/ 降温室

产品参数

产品尺寸：6寸晶圆或150x150mm产品

温度范围：RT ~ 800/1200/1450°C

升温速度：＜100℃/s可编程（此温度不含载盘的升温速度）

                  ＜25℃/s（SiC载盘）

温度均匀度：±5 °C ≤ 500 ℃

±1 % > 500 ℃

温度控制重复性：±1 °C

温控方式：PID 温控