服务热线
010-86460119
产品型号:NRE-4000
厂商性质:生产厂家
所在地:北京市
更新日期:2023-05-16
产品简介:
品牌 | 华测 |
---|
原理:
主要用途:
介质薄膜干法刻蚀,包括SiO2、Si3N4、SiON、SiC等
能够刻蚀硅的化合物(~400 /min)以及金属
典型的硅刻蚀速率,400 /min
高达12"的阳极氧化铝RF样品台
水冷及加热的RF样品台
大的自偏压
淋浴头气流分布
极限真空5x10-7Torr,20分钟内可以达到10-6Torr级别
涡轮分子泵
NRE-3000支持4个MFC,NRE-4000支持8个MFC
无绕曲气体管路
自动下游压力控制
双刻蚀能力:RIE以及PE刻蚀(可选)
终点监测
气动升降顶盖
手动或自动上下载片
预真空锁
基于LabView软件的PC计算机全自动控制
菜单驱动,4级密码访问保护
*的安全联锁
可选ICP离子源以及低温冷却样品台,用于深硅刻蚀
技术指标:
气体种类:O2、CF4、CHF3、SF6、BCl3等
基片尺寸:大支持8英寸,并向下兼容6、5、4、3、2英寸等以及破片
射频电源 :
ICP电源:13.56MHz,1400W; 偏压电源:13.56MHz,800W
工艺温度:10℃到80℃可控
传送模式:自动Loadlock传送系统
其他产品:
NRE-4000:基于PC计算机全自动控制的式系统,占地面积26“D x 44"W
NRE-3500:基于PC计算机全自动控制的紧凑型式系统,占地面积26“D x 26"W
NRE-3000:基于PC计算机全自动控制的台式系统,占地面积26“D x 26"W
NRP-4000:RIE/PECVD双系统
NDR-4000:深RIE刻蚀(深硅刻蚀)系统
反应离子刻蚀机/其他
反应离子刻蚀机/其他
下一篇:超高真空溅射系统/其他